🇺🇸 Технологии. Фотолитография

Анонсирована литографическая система с разрешением 0.768 нм

Авторы разработки - американская Zyvex Labs. Установка предназначена для производства квантовых процессоров. В основе ее работы - принципы сканирующей туннельной микроскопии.

Компания уже принимает заказы на поставку установки ZvyvexLitho1, срок поставки - 6 месяцев.

Подробнее: 3dnews.ru

#микроэлектроника #США #фотолитография #оборудование

📈 Производственное оборудование. Литографические системы

Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%

Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет до примерно $13 млрд к 2033 году при среднегодовом росте примерно на 5%. Оценка рынка в 2022 году - порядка $8 млрд. Ключевой фактор роста рынка литографических систем - быстрое расширение полупроводниковой промышленности.

Драйверы роста:

🔹Появление новых продуктов
🔹Рост инвестиций в расширение мощностей производств микроэлектроники
🔹Рост автопрома по всему мира
🔹Рост расходов на исследования и разработки

Негативные факторы:

🔸 Стремление производителей получить возможность изготовления микросхем с меньшим размером узлов, что оборачивается растущей сложностью разработки нового производственного оборудования
🔸 Спад спроса на электронику

Рассуждая о перспективах технологий литографии: ArF Immersion, KrF, i-line, ArF Dry и EUV, прогнозируется, что наибольшую выручку к концу 2033 года обеспечит сегмент EUV. Рост этого сегмента связан с растущим внедрением сложных электронных устройств, основанных на использовании микропроцессоров. Например, в 2021 году продажи ТВ, смартфонов и компьютеров достигли $850 млрд.

Согласно прогнозу, к концу 2033 года рынок литографических систем АТР будет занимать наибольшую долю по сравнению с другими регионами.

источник: digitaljournal.com

#литография #фотолитография #EUV #микроэлектроника #производствомикроэлектроники #прогнозы

🇷🇺 Литография. Производство микроэлектроники

Какие литографы доступны России?

Публикация на Хабре, посвященная этому ключевому для производства микроэлектроники оборудованию. Относится к категории продвинутых ликбезовских.

🔸 Типы литографов (фотолитографы и электронно-лучевые литографы)
🔸 Ключевые параметры (разрешающая способность)
🔸 Какие литографы есть в России и у кого (ASML PAS разных моделей - у НИИСИ, Маппера, ЗНТЦ, Микрона). Сомнительно, чтобы в России были иммерсионные (ASML или Nikon) и EUV-литографы (ASML).

На что можно уповать?

🔸Минский Планар - степперы 350 нм, разработка 130 нм
🔸ЗНТЦ - разработка 350 нм, разработка 130 нм - вероятно совместно с Планаром
🔸Безмасочная литография на 28 нм от МИЭТ - производительность 0,1 пластины в час.
🔸 ИПФ/ИФМ РАН - разработка литографа 7нм с ксеноновым (11,5 нм) источником излучения - это EUV?

А еще в теории есть Китай и его Shanghai Microelectronics Equipment. Но готовых интересных литографов в Китае нет. Пока нет.

Ах да, еще есть вторичный рынок. Но насколько реалистично купить даже б/у литограф в Россию?

#фотолитография #литографы #микроэлектроника #производствомикроэлектроники

⚔️ Геополитика и микроэлектроника

Американцы едут в Нидерланды, чтобы остановить продажи литографических машин DUV ASML в Китай

На этой неделе в Нидерланды прибудет делегация американских чиновников, включая замминистра торговли и сотрудника Совета национальной безопасности, чтобы убеждать правительство страны в необходимости ужесточения экспортных ограничений в отношении Китая. Об этом сообщают Ведомости (за пейволом)

Переговоры не будут легкими, для Нидерландов рынок Китая на сегодня интереснее рынка США по объемам доходов. Но ведь не все решает экономика? Так что скорого решения проблемы ожидать не стоит.

Статью имеет смысл почитать, т.к. в ней есть и другая интересная информация. И это не только рассказ о проблемах, с которыми сталкивались разработчики EUV-сканеров ASML и об особенностях этих сканеров, но и другие темы.

Несколько цитат:

🔹 Капитализация ASML – 231 млрд евро. Для сравнения: у Intel – $120 млрд, у TSMC – $415 млрд.
🔹 В прошлом году ASML поставила 35 EUV-степперов и почти 200 DUV-степперов (предыдущее поколение с длиной волны 193 нм). В 2025 г. компания планирует выпустить 90 и 600 степперов каждого поколения соответственно.
🔹Чтобы создать EUV-степпер, аналогичный выпускаемым сейчас ASML, Китаю понадобится не менее 10 лет, подсчитали в Джорджтаунском университете
🔹В мире есть только одна страна, которая в случае необходимости могла бы относительно быстро наладить самостоятельное производство полупроводников, – это Япония, объясняет Asia Times. В других странах отсутствуют целые звенья из цепочки производства. При этом Япония не стремится построить суверенное производство.
🔹По оценке Boston Consulting Group и Semiconductor Industry Association, $1 трлн – это минимум, нужный для создания самодостаточного производства полупроводников в отдельно взятой стране. Вот только стоимость суверенных устройств будет сильно выше аналогов, созданных при международном сотрудничестве.

#фотолитография #фотолитографы #ASML #геополитика #Нидерланды #EUV

🇷🇺 Технологии. Оборудование для производства полупроводников

И вновь о перспективных российских литографах - есть ли шанс?

Теме посвящен длинный текст - по ссылке. На выходных самое оно почитать.

Если вкратце - нет смысла повторять путь ASML, но это не создает тупик, благо есть другие возможности. А именно - использование в отечественном литографе лазеро-плазменного источника рентгеновского излучения на основе ксенона (такая разработка в России есть). В совокупности с разработанными в России рентгеновскими зеркалами, есть шансы добиться возможности формировать узлы в единицы нанометров, вплоть до 1нм.

Альтернатива - использование синхротронного излучения в качестве основного источника для безмасочного EUV процесса. Это не только альтернатива, но и возможность создания узлов меньше 1нм.

Понятно, что литограф, даже самый совершенный, не "закрывает" всех проблем производителей микросхем. Но это существенный элемент, который может оказаться востребованным не только в России, если бы мы вдруг захотели делиться своими топовыми разработками с другими странами.

Могут ли эти разработки дойти до воплощения в "железе", причем в коммерчески доступных продуктах. В теории, это возможно. Причем, это может занять не какое-то абстрактное время, а вполне конкретные несколько лет. При условии, что все остальные факторы сложатся благоприятно, что сейчас гарантировать вряд ли возможно. Но если говорить о шансах, они есть.

Бонусом - фото стройки "завода 28нм" в Зеленограде. Корпуса растут быстро, несмотря ни на что.

источник - pikabu.ru

#фотолитография #EUV

🇨🇳 Оборудование для производства микроэлектроники. Фотолитографы. Патенты

Huawei оформила патент на EUV фотолитограф

На сегодня единственный на планете производитель фотолитографов, работающих в сверхжестком ультрафиолете, это компания ASML, Нидерланды. Huawei оформила патент на собственную конструкцию такого устройства. Патент подан в Государственное ведомство интеллектуальной собственности. В описании патента говорится об источнике излучения с длиной волны 13,5 нм, наборе отражающих зеркал и технологии управления.

Говорит ли это о том, что у Huawei уже есть готовый EUV фотолитограф - не обязательно, скорее всего еще пока нет. Является ли это "декларацией намерений" - безусловно. В Китае работают над созданием собственных литографов. До сих пор были известны разработки в области таких аппаратов для более зрелых технологий, но, как видим, в Huawei готовы замахнуться и на более сложное оборудование.

Что же, остается делать прогнозы - как быстро китайцы смогут создать что-то, что будет сравнимо по функциональности и производительности с решениями ASML.

digitnews.in - источник

#Китай #фотолитография #фотолитографы #патенты

🇨🇳 Фотолитография. EUV

Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала

В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?

В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.

Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.

В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.

Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.

Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.

Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.

На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.

digitimes.com - источник

#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы

🇳🇱 Геополитика и рынок оборудования для фотолитографии

В Нидерландах решили укрыться за спинами Германии и Франции

Конфликт по поводу американских хотелок о запрете поставок в Китай литографического оборудования, которое выпускает ASML, вышел на новый виток. Несмотря на настойчивые уговоры со стороны США свернуть поставку в Китай фотолитографических установок DUV (наряду с сохранением запрета на поставку EUV-литографов), в Нидерландах не только не согласились на это, но также обещают в дальнейшем координировать свою политику поставок только с "государствами-партнерами" в Европе и в Азии. Решающее слово будет за властями Франции и Германии. Также консультироваться будут с коллегами из Японии и Тайваня. Об этом заявила глава Минторга Нидерландов Лиза Шрайнемахер, сообщает CNews со ссылкой на South China Morning Post.

Суть заявления понятна. В Нидерландах понимают, что движет Соединенными Штатами в их попытках сдерживания технологического развития полупроводниковой промышленности Китая. Но при этом не хотят первыми отказываться от экспорта в Китай оборудования, которое дает бюджету страны серьезные поступления. В то же время, прозвучали заявления о том, что мораторий на поставки все же может быть введен, если все стороны согласятся его ввести.

В текущей ситуации трудно прогнозировать, чем кончится эта история. Нельзя исключить, что соответствующая договоренность все же будет достигнута, но теперь это может занять так много времени, что в Китае успеют подготовиться к невозможности закупки DUV-литографов и освоят их массовый выпуск собственными силами.

Косвенно это может сыграть на руку России, т.к. после первичного насыщения рынка Китая таким оборудованием, у участников российского рынка, появится возможность закупить китайские литографы, что позволит создать в России сравнительно современные мощности по производству микроэлектроники.

#микроэлектроника #фотолитография #санкции #ASML #Нидерланды #США

🇳🇱 Электронная многолучевая литография. История технологий

Электронная многолучевая литография - MAPPER

Константин Чернышев продолжает цикл публикаций, посвященных интересным технологиям литографии на основе использования электронной многолучевости. На этот раз речь идет о нидерландском проекте MAPPER - технологии многоапертурного попиксельного улучшения разрешения.

Этой разработке много лет, начало восходит к 1998 году, лабораторные прототипы появились спустя 10 лет. Интересно, что в процессе разработки началось сотрудничество Mapper Litography с Роснано, которое вложило около 1 млрд руб. в создание в России предприятия по производству МЭМС электронно-оптических элементов для будущего нидерландского литографа.

К 2015 году в Mapper Litography добрались до первого образца промышленного литографа FLX-1200, способного "нарисовать" 1 пластину 300 мм 28нм в час.

В 2018 года после смерти основного инвестора Mapper Litography обанкротилась, в 2019 году ее наработки купила ASML и с тех пор молчит об этой технологии. А вот в Китае, возможно, продолжают разработки на основе технологии, которой занимались в Mapper Litography.

В основе этой разработки лежит идея формирования потока электронов, превращения его в параллельный поток за счет коллиматорной линзы. При прохождении "толстым потоком" массива апертурных отверстий формируется более 13 тысяч лучей. Каждый луч с помощью конденсаторных микро линз фокусируется в центры отверстий гасящего массива, гасимые лучи отбрасываются на останавливающий лучи массив, а остальные направляются в массив микро-колон, состоящих из массива дефлекторов и линз. Каждая микролинза фокусирует отдельный луч на пластине и может его отклонять в диапазоне 2 мкм с точностью 1 нм, одновременно во всех микролинзах. В публикации автора все это иллюстрируется картинками.

В FLX-1200 число лучей довели уже до 66 248. Решая множество проблем, ученые не смогли в заданные сроки добиться заданной производительности в 10 пластин 300 мм в час, получилось в 10 раз меньше - 1 штука в час, что, впрочем, очень неплохо, и будь FLX-1200 доступен для России, вероятно, закрыло бы множество самых разнообразных потребностей отечественной микроэлектроники.

Проект интересный и, возможно, мы еще услышим о подходе MAPPER, но уже из Китая. Впрочем, и ASML вряд ли стоит убирать из рассмотрения. А может быть кто-то осилит воплощение нидерландских идей в железе в России? Возможно и от хозяйство Роснано что-то осталось?

#литография #фотолитография

(4) Чтобы линейный ERL достиг диапазона EUV нужно модернизировать (если не сказать построить новый) прототип системы, с энергией луча в 800 МэВ.

«Нужно больше денег, хозяин»... – знакомая песня, не правда ли, всякий раз когда речь заходит о переднем крае науки.

В 2021 году команда KEK оценила стоимость стройки (без учета земли) новой системы в $260 млн, обещая выдать прототип, создающий луч 10 кВт EUV. Еще понадобились деньжата на эксплуатационные расходы в $26 млн в год. Не так и много? Безусловно, особенно есть вспомнить о ценах на новые установки ASML.

Но одними деньгами проблему не решить, команде еще предстоит разработать такие ключевые компоненты, как сверхпроводящий резонатор, электронная пушка, ондулятор. А затем все это собрать и отладить, убедившись, что луч стабилен и не дает сбоев во время работы.

И ведь это только источник... пусть и сразу для нескольких, чуть ли не для десятка литографов (по 1 кВт на нос).

Кое-какие наработки есть, скажем, концепция расположения специальных зеркал, способных передавать EUV-излучение без значительной потери мощности или повреждения зеркал.

Стоит отметить, что темой интересуются не только в японской KEK.

Стартап xLight из Пало-Альто, Калифорния, располагает командой ветеранов в области ускорителей частиц, работавших в Стэнфорде и в других подобных местах. Недавно эта компания подписала контракт с Национальной лабораторией ускорителей Ферми в Иллинойсе на разработку сверхпроводящих резонаторов и технологии криомоделей. Похоже, американцы не хотят, чтобы эта тема обошлась без их участия.

И, конечно, многие ожидают, что и сооружаемый в РФ кольцевой ускоритель можно будет приспособить в том числе для современного микроэлектронного производства. Как раз в таких проектах, когда нужно создать что-то единичное, высокотехнологичное и грандиозное, Россия традиционно сильна. Но не будем отвлекаться, сегодня наша тема - не кольцевые, а линейные ускорители для создания светового потока EUV.

Дорога у японцев не будет короткой. Кроме финансирования, которое конечно, не обойдется жалкими сотнями миллионов долларов, ученым придется решать проблему создания сложной и устойчивой системы. Компоненты не должны быстро выходить из строя из-за мощного излучения – радио и лазерного. Не должна пострадать и производительность установки, ведь в конечном итоге интерес к новому источнику продиктован именно его энергоэффективностью и мощностью.

Так что скорого появления литографического производства на основе ERL и EUV-FEL, ждать, увы, не приходится. Тем не менее, это безусловно еще один участник гонки за EUV-технологией производства микросхем. Успеет ли он к финишу первым или бесславно сойдет с дистанции – посмотрим.

@RUSmicro по материалам IEEE Spectrum

#фотолитография #EUV #ERL #FEL #cERL

🇺🇸 Производственное оборудование. EUV High-NA. США

Intel завершила сборку второй системы EUV High-NA

Марк Филлипс, директор по литографическому оборудованию Intel, объявил, что компания успешно завершила установку двух систем EUV с высокой числовой апертурой на своем предприятии в Портленде, Орегон.

Здесь на фабе D1X развернуто экспериментальное производство, где отрабатываются новые техпроцессы, а затем внедряются на других фабриках компании.

Здесь, в частности, разрабатывают техпроцессы 14A и 14A-E с планами внедрений в тестовое производство в 2026 и в 2027 году, соответственно.

С со слов г-на Филлипса, установка 2-й системы High-NA EUV была завершена быстрее, чем первой, благо была заранее подготовлена вся необходимая инфраструктуры. Проверка масок, используемых для литографа High-NA EUV, началась по графику.

В отношении фоторезистов, которые требуются для машин High-NA, г-н Филипс заявил что пока что удается обходиться уже имеющимися CAR (химически усиленным фоторезистом), хотя в будущем еще может потребоваться переход на использование металлоксидных фоторезистов.

Ранее ASML подтвердила, что поставит свои новейшие системы High-NA EUV в TSMC к концу 2024 года. По слухам, первая машина уже прибыла в сентябре 2024 года.

В отношении Samsung ситуация не так ясна. Первоначально компания собиралась приобретать машины ASML High-NA EUV, но после замены главы подразделения Device Solutions на Джун Ён Хён, эти планы были пересмотрены.

@RUSmicro по материалам TrendForce

#фотолитография #EUV

🎓 Фотолитография. Ликбез. Россия

Большой текст в журнале Время Электроники,№09, 2024, автор - Дмитрий Боднарь: "Полупроводниковая микроэлектроника – 2024 г. Часть 1. У High-NA EUV-литографии имеется альтернатива вплоть до 1-нм технологии"

Рассматриваются особенности применяемой в массовом производстве технологии EUV-литографии в экстремальном диапазоне. В ближайшие 10 лет именно методы EUV-литографии с высокой числовой апертурой High-NA и Hyper-NA будут определять возможности масштабирования топологии микросхем.

▪️ EUV-литография становится слишком дорогой. Samsung применяет EUV-литографию на 20 слоях в 3-нм процессе, а при переходе на 2 нм их количество возросло на 30% – до 27 слоев. Ожидается, что в 1,4-нм процессе, намеченном к внедрению в 2027 г., появится свыше 30 слоев.
Расчетные затраты на 1 пластину по 5нм - $8468.

▪️ Многошаблонная Low—NA EUV-литография как альтернатива однократной High-NA EUV.

В настоящее время количество компаний – заказчиков микросхем по технологии менее 5 нм ограничено и практически не растет. В настоящее время цена каждой EUV-установки составляет примерно $181 млн. Сканеры EUV с высокой числовой апертурой NA нового поколения стоят $290–362 млн, в то время как ожидаемая стоимость EUV-оборудования с еще большим значением Hyper-NA может превысить $724 млн. Такие цены на оборудование выдвигают на первый план его окупаемость, которая может достигаться только заметным ростом производительности и значительным повышением цен на пластины с чипами.

TSMC пытается максимально отсрочить закупку EUV-сканеров с High-NA, используя более дешевое, простое EUV-оборудование и технологию с несколькими фотошаблонами. (В заметке @RUSmicro говорится о том, что ASML подтвердила, что поставит свои новейшие системы High-NA EUV в TSMC к концу 2024 года).

Доза – это мера энергии, достигающей пластины и вызывающей химическую реакцию в фоторезисте, которая превращает его из нерастворимого в растворимый, или наоборот.
ASML увеличивает мощность источника с каждой новой моделью EUV, но этого недостаточно для соответствия экспоненциально растущим требованиям к дозе. Таким образом, сканер должен замедлиться, чтобы каждое поле воздействия получило хотя бы минимальную дозу. Более высокая доза означает, что для сохранения производительности понадобится больше сканеров для того же количества пластин, то есть капитальные затраты увеличатся.

▪️ Есть доступная альтернатива техпроцессу EUV-литографии с высокой NA – технология двойного экспонирования с использованием сканеров с низкой NA. Такой процесс уже применяется некоторыми производителями микросхем и предполагает выполнение двух экспозиций с помощью EUV-инструмента с низкой числовой апертурой для печати одного слоя.

Преимущество в пропускной способности двойного рисунка с низкой числовой апертурой настолько велико, что, несмотря на необходимость вдвое большего количества проходов пластины через сканер, затраты на литографию ниже, чем при однократном экспонировании с высокой числовой апертурой. Расчеты показывают, что это верно для техпроцессов от 3 до 1 нм, которые, вероятно, будут представлены к 2030 г.

📌 Существует вероятность, что мощность, превышающая сегодняшние 600 Вт, способна увеличить износ оптики до неприемлемого уровня. (..)

#фотолитография

(2)
▪️ Следующий рубеж – Hyper—NA EUV.

Одной из проблем создания такого оборудования является поляризация света, начинающаяся примерно с 0,55NA и ухудшающая контраст. Чтобы этого избежать, необходимо применение поляризаторов. В то же время они блокируют свет, снижают энергоэффективность и увеличивают себестоимость производства. Еще одной проблемой Hyper-NA станет фоторезист. Уже на уровне 0,55NA сокращается толщина фоторезиста, а с Hyper-NA ситуация становится еще хуже. Это приведет к увеличению проблем с селективностью травления. По мнению специалистов ASML, высокая числовая апертура должна сохраняться в технологиях от 2 нм до 14 Å, 10 Å и, возможно, даже 7 Å. После этого альтернатив Hyper-NA будет мало.

Требуются новые подходы и материалы, включая фотошаблоны, которые не под силу даже такой компании как ASML.

Подготовительная работа за последнее время привела к созданию первых пластин с шириной линий 10 и 16 нм (с шагом 20 и 32 нм), которые могут быть успешно сформированы после экспонирования с использованием металлооксидных резистов (MOR) и химически усиленных резистов (CAR), соответственно. По заверениям iMEC и ASML, в настоящее время прототип сканера и инфраструктура готовы, а внедрение в крупносерийное производство ожидается в 2025–2026 гг.

ASML не рассматривает вариант с сокращением длины волны светового излучения до 6 нм и делает основную ставку на Hyper-NA EUV.

▪️ Японские и прочие альтернативы ASML

Наноимпринтная технология Canon - намного ниже пропускная способность, а минимальный уровень достигаемых топологических размеров не подтвержден. Проблемами также являются недостаточная точность и более высокий уровень дефектности наноимпринтной технологии.

Упрощенное EUV-решение Окинавского института науки и технологий (OIST) - никаких подробностей о технических характеристиках и готовности к коммерческому внедрению не приводится, а потому в настоящее время производственные перспективы отсутствуют.

Существующее оборудование многолучевой электронно-лучевой литографии позволяет отказаться от дорогостоящих фотошаблонов за счет прямого сканирования рисунков непосредственно на пластину. Единственная нидерландская компания Mapper, разрабатывавшая инструменты для электронно-лучевой литографии, обанкротилась, а сама технология так и не получила массового распространения на производстве.

В ближайшие годы альтернатив оборудованию ASML не просматривается.

Заключение

SMIC идет по многошаблонной технологии, достигнут уровень 7нм на DUV оборудовании, идет попытка освоить 5нм. Расчетно можно достигнуть и 3нм.

TSMC в теории может без High-NA освоить 1нм-3нм процессы.

Китай может обходными путями закупить EUV-литограф и тогда выйдет на 1 нм, оборудование DUV и собственные разработки в ближайшие годы этого сделать не позволят.

@RUCmicro по материалам сайта "Время электроники"

#фотолитография

🇳🇱 Производственное оборудование. Фотолитография. Нидерланды

В ASML надеются на рост спроса на свои решения вплоть до 2030 года

В компании ASML уверены в росте востребованности средними темпами 8-14% в год в следующие 5 лет потому, что бум в области ИИ подстегивает спрос на ее самые передовые инструменты.

Для этого компании придется масштабировать производство машин EUV в ближайшие годы.

ASML ожидает выручку в размере 44-60 млрд евро к 2030 году и валовую прибыль в размере 56-60%.

Компания могла бы заработать куда больше, если бы ей не приходилось соблюдать экспортные ограничения США и Нидерландов на продажи своих решений в Китай. ASML разрешено поставлять в Китай только сравнительно «старые» продукты – DUV, работающие по «сухой» технологии.

Шесть последних кварталов доля продаж решений ASML в Китай превышала 40% общей выручки компании, в ASML ожидают сокращения этой доли до 20% в ближайшие кварталы.

Алексей Бойко для @RUSmicro по материалам Reuters

#фотолитография #производственноеоборудование