⚔️ Геополитика и микроэлектроника
Американцы едут в Нидерланды, чтобы остановить продажи литографических машин DUV ASML в Китай
На этой неделе в Нидерланды прибудет делегация американских чиновников, включая замминистра торговли и сотрудника Совета национальной безопасности, чтобы убеждать правительство страны в необходимости ужесточения экспортных ограничений в отношении Китая. Об этом сообщают Ведомости (за пейволом)
Переговоры не будут легкими, для Нидерландов рынок Китая на сегодня интереснее рынка США по объемам доходов. Но ведь не все решает экономика? Так что скорого решения проблемы ожидать не стоит.
Статью имеет смысл почитать, т.к. в ней есть и другая интересная информация. И это не только рассказ о проблемах, с которыми сталкивались разработчики EUV-сканеров ASML и об особенностях этих сканеров, но и другие темы.
Несколько цитат:
🔹 Капитализация ASML – 231 млрд евро. Для сравнения: у Intel – $120 млрд, у TSMC – $415 млрд.
🔹 В прошлом году ASML поставила 35 EUV-степперов и почти 200 DUV-степперов (предыдущее поколение с длиной волны 193 нм). В 2025 г. компания планирует выпустить 90 и 600 степперов каждого поколения соответственно.
🔹Чтобы создать EUV-степпер, аналогичный выпускаемым сейчас ASML, Китаю понадобится не менее 10 лет, подсчитали в Джорджтаунском университете
🔹В мире есть только одна страна, которая в случае необходимости могла бы относительно быстро наладить самостоятельное производство полупроводников, – это Япония, объясняет Asia Times. В других странах отсутствуют целые звенья из цепочки производства. При этом Япония не стремится построить суверенное производство.
🔹По оценке Boston Consulting Group и Semiconductor Industry Association, $1 трлн – это минимум, нужный для создания самодостаточного производства полупроводников в отдельно взятой стране. Вот только стоимость суверенных устройств будет сильно выше аналогов, созданных при международном сотрудничестве.
#фотолитография #фотолитографы #ASML #геополитика #Нидерланды #EUV
Американцы едут в Нидерланды, чтобы остановить продажи литографических машин DUV ASML в Китай
На этой неделе в Нидерланды прибудет делегация американских чиновников, включая замминистра торговли и сотрудника Совета национальной безопасности, чтобы убеждать правительство страны в необходимости ужесточения экспортных ограничений в отношении Китая. Об этом сообщают Ведомости (за пейволом)
Переговоры не будут легкими, для Нидерландов рынок Китая на сегодня интереснее рынка США по объемам доходов. Но ведь не все решает экономика? Так что скорого решения проблемы ожидать не стоит.
Статью имеет смысл почитать, т.к. в ней есть и другая интересная информация. И это не только рассказ о проблемах, с которыми сталкивались разработчики EUV-сканеров ASML и об особенностях этих сканеров, но и другие темы.
Несколько цитат:
🔹 Капитализация ASML – 231 млрд евро. Для сравнения: у Intel – $120 млрд, у TSMC – $415 млрд.
🔹 В прошлом году ASML поставила 35 EUV-степперов и почти 200 DUV-степперов (предыдущее поколение с длиной волны 193 нм). В 2025 г. компания планирует выпустить 90 и 600 степперов каждого поколения соответственно.
🔹Чтобы создать EUV-степпер, аналогичный выпускаемым сейчас ASML, Китаю понадобится не менее 10 лет, подсчитали в Джорджтаунском университете
🔹В мире есть только одна страна, которая в случае необходимости могла бы относительно быстро наладить самостоятельное производство полупроводников, – это Япония, объясняет Asia Times. В других странах отсутствуют целые звенья из цепочки производства. При этом Япония не стремится построить суверенное производство.
🔹По оценке Boston Consulting Group и Semiconductor Industry Association, $1 трлн – это минимум, нужный для создания самодостаточного производства полупроводников в отдельно взятой стране. Вот только стоимость суверенных устройств будет сильно выше аналогов, созданных при международном сотрудничестве.
#фотолитография #фотолитографы #ASML #геополитика #Нидерланды #EUV
Ведомости
«Манхэттенский проект» для IT
Как в Голландии построили монополиста на рынке оборудования для производства чипов, за которого бьются Китай, ЕС и США
🇨🇳 Оборудование для производства микроэлектроники. Фотолитографы. Патенты
Huawei оформила патент на EUV фотолитограф
На сегодня единственный на планете производитель фотолитографов, работающих в сверхжестком ультрафиолете, это компания ASML, Нидерланды. Huawei оформила патент на собственную конструкцию такого устройства. Патент подан в Государственное ведомство интеллектуальной собственности. В описании патента говорится об источнике излучения с длиной волны 13,5 нм, наборе отражающих зеркал и технологии управления.
Говорит ли это о том, что у Huawei уже есть готовый EUV фотолитограф - не обязательно, скорее всего еще пока нет. Является ли это "декларацией намерений" - безусловно. В Китае работают над созданием собственных литографов. До сих пор были известны разработки в области таких аппаратов для более зрелых технологий, но, как видим, в Huawei готовы замахнуться и на более сложное оборудование.
Что же, остается делать прогнозы - как быстро китайцы смогут создать что-то, что будет сравнимо по функциональности и производительности с решениями ASML.
digitnews.in - источник
#Китай #фотолитография #фотолитографы #патенты
Huawei оформила патент на EUV фотолитограф
На сегодня единственный на планете производитель фотолитографов, работающих в сверхжестком ультрафиолете, это компания ASML, Нидерланды. Huawei оформила патент на собственную конструкцию такого устройства. Патент подан в Государственное ведомство интеллектуальной собственности. В описании патента говорится об источнике излучения с длиной волны 13,5 нм, наборе отражающих зеркал и технологии управления.
Говорит ли это о том, что у Huawei уже есть готовый EUV фотолитограф - не обязательно, скорее всего еще пока нет. Является ли это "декларацией намерений" - безусловно. В Китае работают над созданием собственных литографов. До сих пор были известны разработки в области таких аппаратов для более зрелых технологий, но, как видим, в Huawei готовы замахнуться и на более сложное оборудование.
Что же, остается делать прогнозы - как быстро китайцы смогут создать что-то, что будет сравнимо по функциональности и производительности с решениями ASML.
digitnews.in - источник
#Китай #фотолитография #фотолитографы #патенты
VK
Чипы и чиплеты. Запись со стены.
Huawei оформила патент на EUV фотолитограф
На сегодня единственный на планете производитель ... Смотрите полностью ВКонтакте.
На сегодня единственный на планете производитель ... Смотрите полностью ВКонтакте.
🇨🇳 Фотолитография. EUV
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы
🇳🇱 Конфликты. Промышленный шпионаж
ASML сообщает о краже своих данных в Китае
Компания - производитель самых передовых в мире фотолитографов, из Нидерландов обвиняет бывшего сотрудника своего подразделения ASML Holding, базирующегося в Китае, в краже данных из репозитария, который используется для хранения технической информации об оборудовании ASML.
Данные скачаны из программы управления жизненным циклом Teamcenter, сообщают источники. Это внутренний инструмент компании, общее хранилище, позволяющее различным группам сотрудников сотрудничать и вести совместные разработки. Поставщиком этого решения является Siemens.
В 2022 году ASML, в которой работает около 1500 человек в Китае, обвинила базирующуюся в Пекине компанию в потенциальной краже коммерческой тайны в результате кражи, которая случилась несколько лет назад.
Интересно, это такая "артподготовка" перед тем, как ASML объявит о новых ограничениях на поставку в Китай своего оборудования? Или ужесточение политики в отношении высокотехнологичного оборудования ASML в Китай и промышленный шпионаж не связанные явления?
#ASML #конфликты #промышленныйшпионаж #фотолитографы
ASML сообщает о краже своих данных в Китае
Компания - производитель самых передовых в мире фотолитографов, из Нидерландов обвиняет бывшего сотрудника своего подразделения ASML Holding, базирующегося в Китае, в краже данных из репозитария, который используется для хранения технической информации об оборудовании ASML.
Данные скачаны из программы управления жизненным циклом Teamcenter, сообщают источники. Это внутренний инструмент компании, общее хранилище, позволяющее различным группам сотрудников сотрудничать и вести совместные разработки. Поставщиком этого решения является Siemens.
В 2022 году ASML, в которой работает около 1500 человек в Китае, обвинила базирующуюся в Пекине компанию в потенциальной краже коммерческой тайны в результате кражи, которая случилась несколько лет назад.
Интересно, это такая "артподготовка" перед тем, как ASML объявит о новых ограничениях на поставку в Китай своего оборудования? Или ужесточение политики в отношении высокотехнологичного оборудования ASML в Китай и промышленный шпионаж не связанные явления?
#ASML #конфликты #промышленныйшпионаж #фотолитографы
South China Morning Post
ASML stolen data came from repository for chip machines
The data came from the life cycle management program Teamcenter and involved only technological information, not hardware, sources told Bloomberg.
🇨🇳 Производственное оборудование. Литографы. Иммерсионные. Китай
В Китае добились прорыва в области DUV-литографов?
Из документов Министерства промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) можно сделать предположение, что в Китае осуществлен крупный технологический прорыв: разработана машина для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV ArF), способная производить чипы по техпроцессам 8нм или лучше. В настоящее время эту машину представляют производителям в Китае.
В опубликованном MIIT 9 сентября 2024 года «Руководящем каталоге по продвижению и применению основного технического оборудования», среди оборудования для производства интегральных схем упоминается «литографическая машина ArF» с такими параметрами: диаметр пластины – 300 мм, длина волны источника – 248 нм, разрешение менее 65нм, точность наложения – менее 8нм.
Из этого можно сделать вывод, что разработка в Китае отечественного литографа DUV ArF в основном завершена.
Ключевыми участниками процесса были Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), а также специалисты Института микроэлектроники Китайской академии наук.
Если эта информация соответствует действительности, то есть ArF литограф в Китае создан и может выпускаться серийно, то можно смело говорить о том, что санкции США / Нидерландов опять запоздали и запрет на поставки в Китай машин ASML 1970i и ASML 1980i уже не является критичным для китайских производителей. Более того, можно будет говорить о технологической независимости Китая по части литографов.
И все же, каталог-каталогом, но стоило бы еще дождаться официальных заявлений из Китая о готовности собственного литографа.
@RUSmicro по материалам Trendforce
#фотолитографы #ArF
В Китае добились прорыва в области DUV-литографов?
Из документов Министерства промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) можно сделать предположение, что в Китае осуществлен крупный технологический прорыв: разработана машина для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV ArF), способная производить чипы по техпроцессам 8нм или лучше. В настоящее время эту машину представляют производителям в Китае.
В опубликованном MIIT 9 сентября 2024 года «Руководящем каталоге по продвижению и применению основного технического оборудования», среди оборудования для производства интегральных схем упоминается «литографическая машина ArF» с такими параметрами: диаметр пластины – 300 мм, длина волны источника – 248 нм, разрешение менее 65нм, точность наложения – менее 8нм.
Из этого можно сделать вывод, что разработка в Китае отечественного литографа DUV ArF в основном завершена.
Ключевыми участниками процесса были Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), а также специалисты Института микроэлектроники Китайской академии наук.
Если эта информация соответствует действительности, то есть ArF литограф в Китае создан и может выпускаться серийно, то можно смело говорить о том, что санкции США / Нидерландов опять запоздали и запрет на поставки в Китай машин ASML 1970i и ASML 1980i уже не является критичным для китайских производителей. Более того, можно будет говорить о технологической независимости Китая по части литографов.
И все же, каталог-каталогом, но стоило бы еще дождаться официальных заявлений из Китая о готовности собственного литографа.
@RUSmicro по материалам Trendforce
#фотолитографы #ArF
TrendForce Insights
[News] China’s DUV Breakthrough: Capable of Producing 8-Nanometer Chips | TrendForce Insights
China's Ministry of Industry and Information Technology (MIIT) recently announced a major technological breakthrough: the development of a deep ultrav...