📈 Производственное оборудование. Литографические системы

Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%

Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет до примерно $13 млрд к 2033 году при среднегодовом росте примерно на 5%. Оценка рынка в 2022 году - порядка $8 млрд. Ключевой фактор роста рынка литографических систем - быстрое расширение полупроводниковой промышленности.

Драйверы роста:

🔹Появление новых продуктов
🔹Рост инвестиций в расширение мощностей производств микроэлектроники
🔹Рост автопрома по всему мира
🔹Рост расходов на исследования и разработки

Негативные факторы:

🔸 Стремление производителей получить возможность изготовления микросхем с меньшим размером узлов, что оборачивается растущей сложностью разработки нового производственного оборудования
🔸 Спад спроса на электронику

Рассуждая о перспективах технологий литографии: ArF Immersion, KrF, i-line, ArF Dry и EUV, прогнозируется, что наибольшую выручку к концу 2033 года обеспечит сегмент EUV. Рост этого сегмента связан с растущим внедрением сложных электронных устройств, основанных на использовании микропроцессоров. Например, в 2021 году продажи ТВ, смартфонов и компьютеров достигли $850 млрд.

Согласно прогнозу, к концу 2033 года рынок литографических систем АТР будет занимать наибольшую долю по сравнению с другими регионами.

источник: digitaljournal.com

#литография #фотолитография #EUV #микроэлектроника #производствомикроэлектроники #прогнозы

🇳🇱 Электронная многолучевая литография. История технологий

Электронная многолучевая литография - MAPPER

Константин Чернышев продолжает цикл публикаций, посвященных интересным технологиям литографии на основе использования электронной многолучевости. На этот раз речь идет о нидерландском проекте MAPPER - технологии многоапертурного попиксельного улучшения разрешения.

Этой разработке много лет, начало восходит к 1998 году, лабораторные прототипы появились спустя 10 лет. Интересно, что в процессе разработки началось сотрудничество Mapper Litography с Роснано, которое вложило около 1 млрд руб. в создание в России предприятия по производству МЭМС электронно-оптических элементов для будущего нидерландского литографа.

К 2015 году в Mapper Litography добрались до первого образца промышленного литографа FLX-1200, способного "нарисовать" 1 пластину 300 мм 28нм в час.

В 2018 года после смерти основного инвестора Mapper Litography обанкротилась, в 2019 году ее наработки купила ASML и с тех пор молчит об этой технологии. А вот в Китае, возможно, продолжают разработки на основе технологии, которой занимались в Mapper Litography.

В основе этой разработки лежит идея формирования потока электронов, превращения его в параллельный поток за счет коллиматорной линзы. При прохождении "толстым потоком" массива апертурных отверстий формируется более 13 тысяч лучей. Каждый луч с помощью конденсаторных микро линз фокусируется в центры отверстий гасящего массива, гасимые лучи отбрасываются на останавливающий лучи массив, а остальные направляются в массив микро-колон, состоящих из массива дефлекторов и линз. Каждая микролинза фокусирует отдельный луч на пластине и может его отклонять в диапазоне 2 мкм с точностью 1 нм, одновременно во всех микролинзах. В публикации автора все это иллюстрируется картинками.

В FLX-1200 число лучей довели уже до 66 248. Решая множество проблем, ученые не смогли в заданные сроки добиться заданной производительности в 10 пластин 300 мм в час, получилось в 10 раз меньше - 1 штука в час, что, впрочем, очень неплохо, и будь FLX-1200 доступен для России, вероятно, закрыло бы множество самых разнообразных потребностей отечественной микроэлектроники.

Проект интересный и, возможно, мы еще услышим о подходе MAPPER, но уже из Китая. Впрочем, и ASML вряд ли стоит убирать из рассмотрения. А может быть кто-то осилит воплощение нидерландских идей в железе в России? Возможно и от хозяйство Роснано что-то осталось?

#литография #фотолитография

🇰🇷 Фотолитография. Передовые техпроцессы. Производственное оборудование. Корея

Samsung привезла свой первый литограф High-NA EUV ASML EXE:5000

Стоимость комплекта – порядка $500 млн, развернуть его собираются в кампусе Хвасонг (Hwaseong). Как ожидается, ввод в действие этого степпера, позволит Samsung двинуться к покорению техпроцессов от 2нм и ниже.

Тем самым Samsung вошел в новый виток гонки к ангстремам, которую запустила Intel, закупив первую в мире установку High-NA EUV. Первый контракт с ASML на поставку этого вида литографов был подписан еще в 2023 году, а на текущий момент в Intel законтрактовала у ASML в общей сложности 6 таких машин. По данным компании Intel, 2 литографа уже запущены в производстве, выпуская порядка 10 тысяч пластин в месяц. Компания отрабатывает технологию 18А, которая, как ожидается, станет серийной в конце 2025 года.

Кроме того, ожидается, что Intel первой получит и следующую модель – ASML EXE:5200, которая позволит американской компании освоить техпроцесс 14A.
TSMC пока что не спешит с закупками ранних моделей, компания заявила, что собирается запускать массовое производство с использованием фотолитографов High-NA лишь в 2028 году.

@RUSmicro по материалам TrendForce

#HighNA #литография