📈 Производственное оборудование. Литографические системы
Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%
Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет до примерно $13 млрд к 2033 году при среднегодовом росте примерно на 5%. Оценка рынка в 2022 году - порядка $8 млрд. Ключевой фактор роста рынка литографических систем - быстрое расширение полупроводниковой промышленности.
Драйверы роста:
🔹Появление новых продуктов
🔹Рост инвестиций в расширение мощностей производств микроэлектроники
🔹Рост автопрома по всему мира
🔹Рост расходов на исследования и разработки
Негативные факторы:
🔸 Стремление производителей получить возможность изготовления микросхем с меньшим размером узлов, что оборачивается растущей сложностью разработки нового производственного оборудования
🔸 Спад спроса на электронику
Рассуждая о перспективах технологий литографии: ArF Immersion, KrF, i-line, ArF Dry и EUV, прогнозируется, что наибольшую выручку к концу 2033 года обеспечит сегмент EUV. Рост этого сегмента связан с растущим внедрением сложных электронных устройств, основанных на использовании микропроцессоров. Например, в 2021 году продажи ТВ, смартфонов и компьютеров достигли $850 млрд.
Согласно прогнозу, к концу 2033 года рынок литографических систем АТР будет занимать наибольшую долю по сравнению с другими регионами.
источник: digitaljournal.com
#литография #фотолитография #EUV #микроэлектроника #производствомикроэлектроники #прогнозы
Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%
Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет до примерно $13 млрд к 2033 году при среднегодовом росте примерно на 5%. Оценка рынка в 2022 году - порядка $8 млрд. Ключевой фактор роста рынка литографических систем - быстрое расширение полупроводниковой промышленности.
Драйверы роста:
🔹Появление новых продуктов
🔹Рост инвестиций в расширение мощностей производств микроэлектроники
🔹Рост автопрома по всему мира
🔹Рост расходов на исследования и разработки
Негативные факторы:
🔸 Стремление производителей получить возможность изготовления микросхем с меньшим размером узлов, что оборачивается растущей сложностью разработки нового производственного оборудования
🔸 Спад спроса на электронику
Рассуждая о перспективах технологий литографии: ArF Immersion, KrF, i-line, ArF Dry и EUV, прогнозируется, что наибольшую выручку к концу 2033 года обеспечит сегмент EUV. Рост этого сегмента связан с растущим внедрением сложных электронных устройств, основанных на использовании микропроцессоров. Например, в 2021 году продажи ТВ, смартфонов и компьютеров достигли $850 млрд.
Согласно прогнозу, к концу 2033 года рынок литографических систем АТР будет занимать наибольшую долю по сравнению с другими регионами.
источник: digitaljournal.com
#литография #фотолитография #EUV #микроэлектроника #производствомикроэлектроники #прогнозы
VK
Чипы и чиплеты
📈 Производственное оборудование. Литографические системы
Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%
Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет…
Рынок литографических систем в ближайшие 10 лет будет расширяться среднегодовыми темпами ~5%
Как прогнозирует Research Nester, что в период 2023-2033 мировой рынок литографических систем вырастет…
⚔️ Геополитика и микроэлектроника
Американцы едут в Нидерланды, чтобы остановить продажи литографических машин DUV ASML в Китай
На этой неделе в Нидерланды прибудет делегация американских чиновников, включая замминистра торговли и сотрудника Совета национальной безопасности, чтобы убеждать правительство страны в необходимости ужесточения экспортных ограничений в отношении Китая. Об этом сообщают Ведомости (за пейволом)
Переговоры не будут легкими, для Нидерландов рынок Китая на сегодня интереснее рынка США по объемам доходов. Но ведь не все решает экономика? Так что скорого решения проблемы ожидать не стоит.
Статью имеет смысл почитать, т.к. в ней есть и другая интересная информация. И это не только рассказ о проблемах, с которыми сталкивались разработчики EUV-сканеров ASML и об особенностях этих сканеров, но и другие темы.
Несколько цитат:
🔹 Капитализация ASML – 231 млрд евро. Для сравнения: у Intel – $120 млрд, у TSMC – $415 млрд.
🔹 В прошлом году ASML поставила 35 EUV-степперов и почти 200 DUV-степперов (предыдущее поколение с длиной волны 193 нм). В 2025 г. компания планирует выпустить 90 и 600 степперов каждого поколения соответственно.
🔹Чтобы создать EUV-степпер, аналогичный выпускаемым сейчас ASML, Китаю понадобится не менее 10 лет, подсчитали в Джорджтаунском университете
🔹В мире есть только одна страна, которая в случае необходимости могла бы относительно быстро наладить самостоятельное производство полупроводников, – это Япония, объясняет Asia Times. В других странах отсутствуют целые звенья из цепочки производства. При этом Япония не стремится построить суверенное производство.
🔹По оценке Boston Consulting Group и Semiconductor Industry Association, $1 трлн – это минимум, нужный для создания самодостаточного производства полупроводников в отдельно взятой стране. Вот только стоимость суверенных устройств будет сильно выше аналогов, созданных при международном сотрудничестве.
#фотолитография #фотолитографы #ASML #геополитика #Нидерланды #EUV
Американцы едут в Нидерланды, чтобы остановить продажи литографических машин DUV ASML в Китай
На этой неделе в Нидерланды прибудет делегация американских чиновников, включая замминистра торговли и сотрудника Совета национальной безопасности, чтобы убеждать правительство страны в необходимости ужесточения экспортных ограничений в отношении Китая. Об этом сообщают Ведомости (за пейволом)
Переговоры не будут легкими, для Нидерландов рынок Китая на сегодня интереснее рынка США по объемам доходов. Но ведь не все решает экономика? Так что скорого решения проблемы ожидать не стоит.
Статью имеет смысл почитать, т.к. в ней есть и другая интересная информация. И это не только рассказ о проблемах, с которыми сталкивались разработчики EUV-сканеров ASML и об особенностях этих сканеров, но и другие темы.
Несколько цитат:
🔹 Капитализация ASML – 231 млрд евро. Для сравнения: у Intel – $120 млрд, у TSMC – $415 млрд.
🔹 В прошлом году ASML поставила 35 EUV-степперов и почти 200 DUV-степперов (предыдущее поколение с длиной волны 193 нм). В 2025 г. компания планирует выпустить 90 и 600 степперов каждого поколения соответственно.
🔹Чтобы создать EUV-степпер, аналогичный выпускаемым сейчас ASML, Китаю понадобится не менее 10 лет, подсчитали в Джорджтаунском университете
🔹В мире есть только одна страна, которая в случае необходимости могла бы относительно быстро наладить самостоятельное производство полупроводников, – это Япония, объясняет Asia Times. В других странах отсутствуют целые звенья из цепочки производства. При этом Япония не стремится построить суверенное производство.
🔹По оценке Boston Consulting Group и Semiconductor Industry Association, $1 трлн – это минимум, нужный для создания самодостаточного производства полупроводников в отдельно взятой стране. Вот только стоимость суверенных устройств будет сильно выше аналогов, созданных при международном сотрудничестве.
#фотолитография #фотолитографы #ASML #геополитика #Нидерланды #EUV
Ведомости
«Манхэттенский проект» для IT
Как в Голландии построили монополиста на рынке оборудования для производства чипов, за которого бьются Китай, ЕС и США
🇷🇺 Технологии. Оборудование для производства полупроводников
И вновь о перспективных российских литографах - есть ли шанс?
Теме посвящен длинный текст - по ссылке. На выходных самое оно почитать.
Если вкратце - нет смысла повторять путь ASML, но это не создает тупик, благо есть другие возможности. А именно - использование в отечественном литографе лазеро-плазменного источника рентгеновского излучения на основе ксенона (такая разработка в России есть). В совокупности с разработанными в России рентгеновскими зеркалами, есть шансы добиться возможности формировать узлы в единицы нанометров, вплоть до 1нм.
Альтернатива - использование синхротронного излучения в качестве основного источника для безмасочного EUV процесса. Это не только альтернатива, но и возможность создания узлов меньше 1нм.
Понятно, что литограф, даже самый совершенный, не "закрывает" всех проблем производителей микросхем. Но это существенный элемент, который может оказаться востребованным не только в России, если бы мы вдруг захотели делиться своими топовыми разработками с другими странами.
Могут ли эти разработки дойти до воплощения в "железе", причем в коммерчески доступных продуктах. В теории, это возможно. Причем, это может занять не какое-то абстрактное время, а вполне конкретные несколько лет. При условии, что все остальные факторы сложатся благоприятно, что сейчас гарантировать вряд ли возможно. Но если говорить о шансах, они есть.
Бонусом - фото стройки "завода 28нм" в Зеленограде. Корпуса растут быстро, несмотря ни на что.
источник - pikabu.ru
#фотолитография #EUV
И вновь о перспективных российских литографах - есть ли шанс?
Теме посвящен длинный текст - по ссылке. На выходных самое оно почитать.
Если вкратце - нет смысла повторять путь ASML, но это не создает тупик, благо есть другие возможности. А именно - использование в отечественном литографе лазеро-плазменного источника рентгеновского излучения на основе ксенона (такая разработка в России есть). В совокупности с разработанными в России рентгеновскими зеркалами, есть шансы добиться возможности формировать узлы в единицы нанометров, вплоть до 1нм.
Альтернатива - использование синхротронного излучения в качестве основного источника для безмасочного EUV процесса. Это не только альтернатива, но и возможность создания узлов меньше 1нм.
Понятно, что литограф, даже самый совершенный, не "закрывает" всех проблем производителей микросхем. Но это существенный элемент, который может оказаться востребованным не только в России, если бы мы вдруг захотели делиться своими топовыми разработками с другими странами.
Могут ли эти разработки дойти до воплощения в "железе", причем в коммерчески доступных продуктах. В теории, это возможно. Причем, это может занять не какое-то абстрактное время, а вполне конкретные несколько лет. При условии, что все остальные факторы сложатся благоприятно, что сейчас гарантировать вряд ли возможно. Но если говорить о шансах, они есть.
Бонусом - фото стройки "завода 28нм" в Зеленограде. Корпуса растут быстро, несмотря ни на что.
источник - pikabu.ru
#фотолитография #EUV
Пикабу
Наступает эра российской микроэлектроники: есть возможность обойти лидеров?
Пост пикабушника rromss
🇨🇳 Фотолитография. EUV
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы
(4) Чтобы линейный ERL достиг диапазона EUV нужно модернизировать (если не сказать построить новый) прототип системы, с энергией луча в 800 МэВ.
«Нужно больше денег, хозяин»... – знакомая песня, не правда ли, всякий раз когда речь заходит о переднем крае науки.
В 2021 году команда KEK оценила стоимость стройки (без учета земли) новой системы в $260 млн, обещая выдать прототип, создающий луч 10 кВт EUV. Еще понадобились деньжата на эксплуатационные расходы в $26 млн в год. Не так и много? Безусловно, особенно есть вспомнить о ценах на новые установки ASML.
Но одними деньгами проблему не решить, команде еще предстоит разработать такие ключевые компоненты, как сверхпроводящий резонатор, электронная пушка, ондулятор. А затем все это собрать и отладить, убедившись, что луч стабилен и не дает сбоев во время работы.
И ведь это только источник... пусть и сразу для нескольких, чуть ли не для десятка литографов (по 1 кВт на нос).
Кое-какие наработки есть, скажем, концепция расположения специальных зеркал, способных передавать EUV-излучение без значительной потери мощности или повреждения зеркал.
Стоит отметить, что темой интересуются не только в японской KEK.
Стартап xLight из Пало-Альто, Калифорния, располагает командой ветеранов в области ускорителей частиц, работавших в Стэнфорде и в других подобных местах. Недавно эта компания подписала контракт с Национальной лабораторией ускорителей Ферми в Иллинойсе на разработку сверхпроводящих резонаторов и технологии криомоделей. Похоже, американцы не хотят, чтобы эта тема обошлась без их участия.
И, конечно, многие ожидают, что и сооружаемый в РФ кольцевой ускоритель можно будет приспособить в том числе для современного микроэлектронного производства. Как раз в таких проектах, когда нужно создать что-то единичное, высокотехнологичное и грандиозное, Россия традиционно сильна. Но не будем отвлекаться, сегодня наша тема - не кольцевые, а линейные ускорители для создания светового потока EUV.
Дорога у японцев не будет короткой. Кроме финансирования, которое конечно, не обойдется жалкими сотнями миллионов долларов, ученым придется решать проблему создания сложной и устойчивой системы. Компоненты не должны быстро выходить из строя из-за мощного излучения – радио и лазерного. Не должна пострадать и производительность установки, ведь в конечном итоге интерес к новому источнику продиктован именно его энергоэффективностью и мощностью.
Так что скорого появления литографического производства на основе ERL и EUV-FEL, ждать, увы, не приходится. Тем не менее, это безусловно еще один участник гонки за EUV-технологией производства микросхем. Успеет ли он к финишу первым или бесславно сойдет с дистанции – посмотрим.
@RUSmicro по материалам IEEE Spectrum
#фотолитография #EUV #ERL #FEL #cERL
«Нужно больше денег, хозяин»... – знакомая песня, не правда ли, всякий раз когда речь заходит о переднем крае науки.
В 2021 году команда KEK оценила стоимость стройки (без учета земли) новой системы в $260 млн, обещая выдать прототип, создающий луч 10 кВт EUV. Еще понадобились деньжата на эксплуатационные расходы в $26 млн в год. Не так и много? Безусловно, особенно есть вспомнить о ценах на новые установки ASML.
Но одними деньгами проблему не решить, команде еще предстоит разработать такие ключевые компоненты, как сверхпроводящий резонатор, электронная пушка, ондулятор. А затем все это собрать и отладить, убедившись, что луч стабилен и не дает сбоев во время работы.
И ведь это только источник... пусть и сразу для нескольких, чуть ли не для десятка литографов (по 1 кВт на нос).
Кое-какие наработки есть, скажем, концепция расположения специальных зеркал, способных передавать EUV-излучение без значительной потери мощности или повреждения зеркал.
Стоит отметить, что темой интересуются не только в японской KEK.
Стартап xLight из Пало-Альто, Калифорния, располагает командой ветеранов в области ускорителей частиц, работавших в Стэнфорде и в других подобных местах. Недавно эта компания подписала контракт с Национальной лабораторией ускорителей Ферми в Иллинойсе на разработку сверхпроводящих резонаторов и технологии криомоделей. Похоже, американцы не хотят, чтобы эта тема обошлась без их участия.
И, конечно, многие ожидают, что и сооружаемый в РФ кольцевой ускоритель можно будет приспособить в том числе для современного микроэлектронного производства. Как раз в таких проектах, когда нужно создать что-то единичное, высокотехнологичное и грандиозное, Россия традиционно сильна. Но не будем отвлекаться, сегодня наша тема - не кольцевые, а линейные ускорители для создания светового потока EUV.
Дорога у японцев не будет короткой. Кроме финансирования, которое конечно, не обойдется жалкими сотнями миллионов долларов, ученым придется решать проблему создания сложной и устойчивой системы. Компоненты не должны быстро выходить из строя из-за мощного излучения – радио и лазерного. Не должна пострадать и производительность установки, ведь в конечном итоге интерес к новому источнику продиктован именно его энергоэффективностью и мощностью.
Так что скорого появления литографического производства на основе ERL и EUV-FEL, ждать, увы, не приходится. Тем не менее, это безусловно еще один участник гонки за EUV-технологией производства микросхем. Успеет ли он к финишу первым или бесславно сойдет с дистанции – посмотрим.
@RUSmicro по материалам IEEE Spectrum
#фотолитография #EUV #ERL #FEL #cERL
🇺🇸 Производственное оборудование. EUV High-NA. США
Intel завершила сборку второй системы EUV High-NA
Марк Филлипс, директор по литографическому оборудованию Intel, объявил, что компания успешно завершила установку двух систем EUV с высокой числовой апертурой на своем предприятии в Портленде, Орегон.
Здесь на фабе D1X развернуто экспериментальное производство, где отрабатываются новые техпроцессы, а затем внедряются на других фабриках компании.
Здесь, в частности, разрабатывают техпроцессы 14A и 14A-E с планами внедрений в тестовое производство в 2026 и в 2027 году, соответственно.
С со слов г-на Филлипса, установка 2-й системы High-NA EUV была завершена быстрее, чем первой, благо была заранее подготовлена вся необходимая инфраструктуры. Проверка масок, используемых для литографа High-NA EUV, началась по графику.
В отношении фоторезистов, которые требуются для машин High-NA, г-н Филипс заявил что пока что удается обходиться уже имеющимися CAR (химически усиленным фоторезистом), хотя в будущем еще может потребоваться переход на использование металлоксидных фоторезистов.
Ранее ASML подтвердила, что поставит свои новейшие системы High-NA EUV в TSMC к концу 2024 года. По слухам, первая машина уже прибыла в сентябре 2024 года.
В отношении Samsung ситуация не так ясна. Первоначально компания собиралась приобретать машины ASML High-NA EUV, но после замены главы подразделения Device Solutions на Джун Ён Хён, эти планы были пересмотрены.
@RUSmicro по материалам TrendForce
#фотолитография #EUV
Intel завершила сборку второй системы EUV High-NA
Марк Филлипс, директор по литографическому оборудованию Intel, объявил, что компания успешно завершила установку двух систем EUV с высокой числовой апертурой на своем предприятии в Портленде, Орегон.
Здесь на фабе D1X развернуто экспериментальное производство, где отрабатываются новые техпроцессы, а затем внедряются на других фабриках компании.
Здесь, в частности, разрабатывают техпроцессы 14A и 14A-E с планами внедрений в тестовое производство в 2026 и в 2027 году, соответственно.
С со слов г-на Филлипса, установка 2-й системы High-NA EUV была завершена быстрее, чем первой, благо была заранее подготовлена вся необходимая инфраструктуры. Проверка масок, используемых для литографа High-NA EUV, началась по графику.
В отношении фоторезистов, которые требуются для машин High-NA, г-н Филипс заявил что пока что удается обходиться уже имеющимися CAR (химически усиленным фоторезистом), хотя в будущем еще может потребоваться переход на использование металлоксидных фоторезистов.
Ранее ASML подтвердила, что поставит свои новейшие системы High-NA EUV в TSMC к концу 2024 года. По слухам, первая машина уже прибыла в сентябре 2024 года.
В отношении Samsung ситуация не так ясна. Первоначально компания собиралась приобретать машины ASML High-NA EUV, но после замены главы подразделения Device Solutions на Джун Ён Хён, эти планы были пересмотрены.
@RUSmicro по материалам TrendForce
#фотолитография #EUV
TrendForce News
[News] Intel Completes Assembly of Second High-NA EUV System, ASML Confirms | TrendForce News
According to a report from TechNews, Christophe Fouquet, the CEO of ASML, announced that Intel's second high-NA EUV system has been completely assembl...