🇨🇳 Производственное оборудование. Литографы. Иммерсионные. Китай
В Китае добились прорыва в области DUV-литографов?
Из документов Министерства промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) можно сделать предположение, что в Китае осуществлен крупный технологический прорыв: разработана машина для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV ArF), способная производить чипы по техпроцессам 8нм или лучше. В настоящее время эту машину представляют производителям в Китае.
В опубликованном MIIT 9 сентября 2024 года «Руководящем каталоге по продвижению и применению основного технического оборудования», среди оборудования для производства интегральных схем упоминается «литографическая машина ArF» с такими параметрами: диаметр пластины – 300 мм, длина волны источника – 248 нм, разрешение менее 65нм, точность наложения – менее 8нм.
Из этого можно сделать вывод, что разработка в Китае отечественного литографа DUV ArF в основном завершена.
Ключевыми участниками процесса были Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), а также специалисты Института микроэлектроники Китайской академии наук.
Если эта информация соответствует действительности, то есть ArF литограф в Китае создан и может выпускаться серийно, то можно смело говорить о том, что санкции США / Нидерландов опять запоздали и запрет на поставки в Китай машин ASML 1970i и ASML 1980i уже не является критичным для китайских производителей. Более того, можно будет говорить о технологической независимости Китая по части литографов.
И все же, каталог-каталогом, но стоило бы еще дождаться официальных заявлений из Китая о готовности собственного литографа.
@RUSmicro по материалам Trendforce
#фотолитографы #ArF
В Китае добились прорыва в области DUV-литографов?
Из документов Министерства промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) можно сделать предположение, что в Китае осуществлен крупный технологический прорыв: разработана машина для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV ArF), способная производить чипы по техпроцессам 8нм или лучше. В настоящее время эту машину представляют производителям в Китае.
В опубликованном MIIT 9 сентября 2024 года «Руководящем каталоге по продвижению и применению основного технического оборудования», среди оборудования для производства интегральных схем упоминается «литографическая машина ArF» с такими параметрами: диаметр пластины – 300 мм, длина волны источника – 248 нм, разрешение менее 65нм, точность наложения – менее 8нм.
Из этого можно сделать вывод, что разработка в Китае отечественного литографа DUV ArF в основном завершена.
Ключевыми участниками процесса были Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) и Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), а также специалисты Института микроэлектроники Китайской академии наук.
Если эта информация соответствует действительности, то есть ArF литограф в Китае создан и может выпускаться серийно, то можно смело говорить о том, что санкции США / Нидерландов опять запоздали и запрет на поставки в Китай машин ASML 1970i и ASML 1980i уже не является критичным для китайских производителей. Более того, можно будет говорить о технологической независимости Китая по части литографов.
И все же, каталог-каталогом, но стоило бы еще дождаться официальных заявлений из Китая о готовности собственного литографа.
@RUSmicro по материалам Trendforce
#фотолитографы #ArF
[News] Updated: Rumored China’s DUV Breakthrough – Now Capable of Producing 8-Nanometer Chips | TrendForce News
According to a report by the Central News Agency, China's Ministry of Industry and Information Technology (MIIT) recently announced a major technologi...
👍17🤔4🔥2