🇷🇺 Господдержка. Производственное оборудование. Лазеры

Минпромторг заказал разработку гелий-неоновых лазеров 632нм для фотолитографов и другого оборудования, используемого в производстве микросхем

Разработка призвана заменить лазеры модели 5517C и фотоприемников моделей E1709A и 1780А американской компании Keysight, применяемых в зарубежном фотолитографическом оборудовании компаний Nikon (SF 204-206, i-11, i-12) и ASML PAS-5500 и в оборудовании контроля фотошаблонов и контроля дефектов пластин с выращенными полупроводниковыми структурами. Такие лазеры используются в системах позиционирования, это не основной источник излучения, используемый для засветки фоторезиста в процессе производства полупроводниковых структур.

Разработчик должен будет использовать комплектующие и материалы отечественного производства.

@RUSmicro по материалам CNews

#господдержка #лазеры

(2) Центральная длина волны фторида иттрия-лития, легированного тулием, - около 2 мкм, что заметно отличает этот лазер от других интенсивных лазеров, длина волны которых обычно меньше 1 мкм. Проект станет первым исследованием лазера джоулевого класса совместно с мишенью 2 мкм. Как ожидается, новый лазер можно будет сопрячь с технологиями генерации EUV-излучения за счет наносекундных импульсов, и высокоэнергетических рентгеновских лучей и частиц с использованием сверхкоротких субпикосекундных импульсов.

Кроме применения в микроэлектронике BAT может быть задействован в области физики высокой плотности энергии и проектах «инерциальной термоядерной энергии».

В LLNL задействуют высокомощную лазерную установку Jupiter (JLF), которая недавно прошла реконструкцию.

Для Ливерморской лаборатории, разработки в области EUV – не в новинку. Здесь еще в 1997 году разработали Engineering Test Stand – первый прототип инструмента для экспонирования с использованием EUV. В этой лаборатории разработали также эффективную многослойную оптику, которая позволяет транспортировать EUV-свет. LLNL сотрудничала с ASML в области моделирования плазмы для оптимизации эффективности источника.

Сейчас машины ASML EUV используют импульсные CO2 лазеры для управления источниками EUV-света. Исследования LLNL показывают, что технологии твердотельных лазеров на основе диодов могут обеспечить достижение более высоких мощностей при более высокой общей энергоэффективности.

Судя по рисунку, этот источник может применяться, как для формирования EUV-излучения традиционным для ASML способом на основе дроплетов – капель олова, так и для работы с потоками различных жидкостей, формирования плазменных источников.

@RUSmicro по материалам LLNL, картинка - Janelle Cataldo/LLNL

#EUV #фотолитография #источники #лазеры