🇨🇳 Фотолитография. EUV
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы
Huawei подтвердила информацию об успехах на пути к созданию EUV литографа - но самого существенного не сказала
В компании подтвердили создание источника света, который позволяет создавать микросхемы на базе узлов с размерами менее 10 нм. Huawei, как принято в Китае, пышно заявил, что "вошел в игру" по созданию топового производственного оборудования для производства микроэлектроники. Тем не менее, неясным остается - есть ли у Huawei возможность производить EUV-фотолитограф целиком, и создано ли хоть одно такое устройство?
В отчете аналитической компании UDN говорится, что темой EUV-литографии в Китае занимаются активно, в частности, в процесс вовлечен известный исследовательский центр Tsinghua, где также занимаются источниками света, которые можно использовать для EUV фотолитографии. В Академии наук Китая разработали технологию создания системы зеркал.
Несмотря на разработку источника света, фотолитограф EUV изготовить непросто. В частности, в устройстве EUV компании ASML порядка 100 тысяч компонентов, что требует для создания таких устройств четкой работы огромной цепочки поставок, организация которых является сложной задачей для любой страны, которая пытается создать такое оборудование с нуля.
В последние годы Huawei старается незаметно развивать внутреннюю полупроводниковую экосистему в попытках противостоять санкциям США, не позволяющим компании получить доступ к передовым чипам. Huawei инвестировала во множество компаний, формируя собственную цепочку поставок, начиная с EDA, производственного оборудования и материалов и заканчивая созданием полупроводникового производства, включая тестирование и упаковку чипов.
Согласно раскрытой в патенте информации, в заявке предложен рефлектор, литографическое устройство и способ управления, которые могут решить проблему гомогенизации когерентного света за счет формирования фиксированной интерференционной картины.
Параллельно с разработкой EUV-литографии, Huawei также активно разрабатывают другие передовые технологии, в частности, компания активно занимается кремниевой фотоникой.
Интересно, что источники света ASML (разработанный американской компанией Cymer) и Huawei различаются принципом действия. Так, Huawei в своем патенте пишет о вращающемся источнике света, что должно позволить сократить количество ярко или слабо освещенных паттернов в одной и той же области, тогда как патент ASML 2016 года позволяет разделять один и тот же луч света так, чтобы он падал в разные точки для получения однородного освещения на соответствующих подвижных и стационарных плоских панелях и комплектах отражателей.
На текущий момент доступ к EUV фотолитографам ASML имеют только компании TSMC, Samsung (около 40 EUV сканеров), Micron, Intel и SK Hynix. Китай может импортировать только DUV-сканеры, которые используются для производства чипов с узлами от 28 нм и выше.
digitimes.com - источник
#EUV #Huawei #фотолитография #фотолитографы