🤩 Развитие фотонных квантовых технологий в России: от фундаментальных исследований до рыночного внедрения

На пленарном заседании форума «Микроэлектроника 2025» представили прорывные отечественные фотонные квантовые технологии, которые находятся на передовом крае мировой науки.

🤩 Подробнее

#пленарноезаседание
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Демин
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Шантаев
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

🤩 ГК «Элемент» и инженерные центры МГУ объединят усилия в микроэлектронике

ГК «Элемент» на форуме «Микроэлектроника 2025» подписала пятилетние соглашения о сотрудничестве с «Центром инженерной физики» и «Мальт Систем». Партнёры займутся совместными ОКР и разработкой новых продуктов.

🤩 Подробнее

#Элемент
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Собачкин
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Винников
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Бирюков
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Алексеев
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

🤩Делимся цитатами докладчиков секции №9 «Специальное технологическое оборудование»

🤩 Шаталин Алексей Андреевич, начальник лаборатории отдела перспективных разработок, АО «НПП «ЭСТО»:

Мы разрабатываем технический проект отечественной установки электронно-лучевой литографии с минимальным размером элемента в резисте – 130-90 нм. В ходе разработки была создана оригинальная технология производства магнитных систем управления электронным пучком, которая будет реализована в опытных образцах установки с топологическим элементом 150 нм. Обе установки смогут обеспечить превосходное разрешение линий оригинального изображения, что значительно улучшит качество требуемой топологии.

🤩 Лундин Всеволод Владимирович, к.ф.н., главный конструктор, ООО «Монолюм»:

Результат нашей почти 20-летней работы: объединение усилий ведущих научных, проектных и производственных организаций; четыре отечественные МОС-гидридные установки уникальной конструкции запущены и успешно работают (первая – уже 12 лет); еще четыре находятся в разных стадиях: от полной готовности к запуску до разгара проектирования. Цель всей работы – не импортозамещение (это важный побочный результат), а создание отсутствующего на мировых рынках специального технологического оборудования.

🤩 Плебанович Владимир Иванович, к.т.н., заместитель генерального директора, ОАО «Планар»:

Применение новых видов полупроводниковых материалов позволяет создавать инновационные изделия с уникальными свойствами. Их освоение в производстве предполагает создание нового парка технологического оборудования. Зная свойства этих материалов и понимая, как они влияют на работу оборудования, можно использовать существующее оборудование с незначительными доработками, что значительно сократит затраты на внедрение новых технологий.

🤩 Бородин Владимир Алексеевич, член-корр. РАН, д.т.н., научный руководитель, АО «ЭЗАН»:

Советские ученые были пионерами в создании научных основ промышленной технологии выращивания монокристаллов карбида кремния. Их достижения использовались другими странами для создания массового производства этого широко востребованного материала для силовой электроники, светотехники, СВЧ-техники, современного транспорта и энергетики. Пришло время российских специалистов создать отечественное оборудование и технологии получения монокристаллов карбида кремния, соответствующие мировому уровню. 

🤩 Сажнев Сергей Викторович, к.т.н., генеральный директор, ООО «Элточприбор»:

По данным токийского института микроэлектроники, 63% дефектов на полупроводниковой пластине, возникающих в процессе создания прибора, связаны с газовой системой технологического оборудования. Таким образом, разработка современной элементной базы для газовых систем технологического оборудования в микроэлектронике является важнейшим фактором качества микросхем.

🤩 Попенко Виталий Федорович, к.х.н., заместитель генерального директора по науке, ООО «Элточприбор»:

Особое значение в микроэлектронике имеет чистота газов непосредственно в точке потребления. Это требует применения финишных очистителей с высоким уровнем очистки и, в особенности, от кислородсодержащих и углеродных примесей, микрочастиц. Наличие молекулярных примесей выше уровня 1 ppb может существенно влиять как на выход годных на каждой отдельной технологической операции, так и на сквозной выход годных. Также это может приводить к образованию скрытых дефектов, проявляющихся уже на стадии эксплуатации готовых приборов.

#цитата
#Шаталин
#Лундин
#Плебанович
#Бородин
#Сажнев
#Попенко
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#спецрепортаж
#Горшенин
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Леонов
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Щербаков
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Садкова
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Поликарпова
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Зубцов
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Ларина
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника

#фотоцитата
#Горшков
#микроэлектроника2025

🤩 Форум Микроэлектроника